新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率.

什么是物理蒸镀以及步骤简述。

大致上可分为原位量测、离位量测两类：原位星测系指镀膜进行中量测，普遍使用在...

膜的均匀性会受到夹具、掩膜等的影响

控制基底区域内薄膜厚度的均匀性、控制每层膜的整体厚度

薄膜和基材之间的晶格失配、薄膜和基材之间的热膨胀....

通俗的定义为在正常状况下,其应用功能不会失效.

电子束加热装置及特点电子束通过5-10KV的电场后被加速,然后聚焦到被蒸发的材料表面,把能量传递给待蒸发的材料使其熔化并蒸发. 无污染:与坩埚接触的待蒸发材料保持固态.…

真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法…

不同成份气相前置反应物由主流气体进来，以扩散机制传输基板表面。理想状况下，前置物在基板上的浓度是零，亦即在基板上立刻反应，实际上并非如此。(2)前置反应物...