溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。溅射靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用。中诺新材专业生产半导体晶圆制造和先进封装用4-12寸高品质溅射靶材。

蒸镀是一种常规的制作器件和电极的工艺，常见的真空蒸镀技术有：电阻加热蒸发，电子束蒸发，激光蒸发等。中诺新材可提供半导体行业，太阳能电池行业，及微钠加工领域常规的电极材料：金银铂钯，钛镍铜铝等高纯度金属颗粒，尺寸大小可根据客户要求定制。

随着现代工业技术的发展，对特殊金属合金材料的品种、质量提出了越来越高的要求。合金的制备常规有以下两种方式：特种熔炼，粉末冶金。我公司可以提供合金生产的原料，粉末，颗粒，块锭等。可进行多种常规合金材料的生产，还可根据客户的需求为客户定制开发特种合金。

光学薄膜是为改变光学零件表面特征而镀在光学零件表面上的一层或多层膜。可以是金属膜、介质膜或这两类膜的组合。主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、分束膜、滤光片和其他特殊应用膜层等，中诺新材专业生产各种金属单质镀膜材料，化合物镀膜材料。