高纯铟的生产方法主要有电解法、真空蒸馏法、区域熔炼法、金属有机化合物法、低卤化合物法等。本文主要综述了目前国内外高纯铟的制备方法及发展方向。

ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。

按照涂层材料、制备方式、功能进行分类

划痕是指膜面内外有道子，膜内的称划痕，膜外的称膜伤。

镜圈或碟片与镜片（基片）的热膨胀系数不一致，冷却过程中会造成镜片的破边或炸裂。

镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救的成功率比较高。

光谱特性不良是指分光反射（透射）曲线不满足零件产品技术要求，是功能性的不良，生产制造中必须严格监控。

有膜内色斑（含膜层色斑）和膜外色斑二种。

脏可以包括：灰尘点、白雾、油斑、指纹印、口水点等。（灰尘点和白雾单列）

膜色差异有二种（不包含色斑），一种是整罩上、中、下膜色不一致，即分光测试曲线有差异；二是单片膜色不一致。