碳化硅材料核心参数全解析：科研人员必备技术指南

薄膜沉积—磁控溅射法

离子束辅助沉积技术

离子注入掺杂

离子注入技术的特点

离子注入表面改性机理

 强束流离子源

离子注入表面处理是将某种元素的蒸气通入电离室电离后形成正离子，然后将正离子从电离室引出进入高压电场中加速，使其得到很高速度后再打入放在真空靶室中的工件表面的一种离子束加工技术。

离子注入概述

电子迁移率和光电转化效率高，在微电子和光电子领域应用广泛