磁控溅射包括很多种类.各有不同工作原理和应用对象.

利用HDAP法能获得电阻率较低的ITO薄膜,尤其是在基片温度不能太高的材料上制备ITO薄膜时,使用HDAP法制备ITO薄膜可以得到较理想的ITO薄膜

制备ITO薄膜时要得到不同的膜层厚度比较容易,而ITO薄膜的电阻率(ρ)的大小则是ITO薄膜制备工艺的关键。

表面覆膜技术包括热喷涂、真空镀、电镀。

蒸镀的加热方式包括几种?各具有什么特点呢？

PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）

利用溅射进行镀膜的几个特点

溅射靶材的溅射准备、靶材清洁、靶材安装等说明。

清洗是通过化学或(及)物理的方法将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净，确保工件获得较好的涂层结合力和生产的顺利进行

清洗主要方法和步骤应包括：化学药剂喷淋、化学药剂浸泡与超声波清洗、漂洗、烘干。