导电薄膜在光电子薄膜器件以及集成电路中的应用十分广泛.

光学薄膜可以采用物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和化学液相沉积(CLD)三种技术来制备.

光学薄膜技术作为一门独立的学科,近年来获得较大幅度的进展,应用范围日益广泛.

光学镀膜由薄的分层介质构成的,通过界面传播光束的一类光学介质材料.

入射角度:入射光线和滤光片表面法线之间的夹角.当光线正入射时,入射角为0°.光谱特性:滤光片光谱参数(透过率T,反射率R,光密度OD,位相,偏振状态s,p等相对于波长变化的特性).

镀膜靶材是用物理或化学的方法在靶材表面镀上一层透明的电解质膜,或镀一层金属膜,目的是改变靶材表面的反射和透射特性.

光学镀膜材料的原材料，绝大部分属于储量非常小的稀有金属。

主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜......

光的波动性以及薄膜干涉

光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸...