这几个参数在磁控溅射镀膜工艺中会影响镀膜质量
磁控溅射真空镀膜设备镀膜工艺主要受哪几个参数影响呢？磁控镀膜机里面的工艺参数有很多很多，每个参数对磁控镀膜系统来说都是非常重要的因素，因为一个参数未达标，都没办法完成所需要达到的要求，今天给大家介绍磁控溅射真空镀膜设备几个常见比较重要参数
蒸发镀膜和溅射镀膜的优缺点
真空镀膜技术简称PVD，在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。真空镀膜设备镀膜技术主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。而蒸发镀膜技术也分为三种，电阻蒸发，电子束蒸发，感应加热蒸发。
5种溅射镀膜方法（制备优质薄膜）
一、不平衡磁控溅射
不平衡磁控溅射，是指阴极内外磁极部分的磁通量不等。不平衡磁场的作用是捕获从目标表面逸出的快速移动的二次电子。这些电子与远离靶材表面的中性气体原子发生电离碰撞，并在衬底区域产生更多的离子和更多的电子，从而大大增加了衬底离子轰击。由于不平衡磁控溅射的发展，薄膜的质量大大提高。
陶瓷材料的分类
采用天然原料如长石、粘土和石英等烧结而成，是典型的硅酸盐材料，主要组成元素是硅、铝、氧，这三种元素占地壳元素总量的90%，普通陶瓷来源丰富、成本低、工艺成熟。这类陶瓷按性能特征和用途又可分为日用陶瓷、建筑陶瓷、电绝缘陶瓷、化工陶瓷等。
陶瓷材料的性能
陶瓷材料是指用天然或合成化合物经过成形和高温烧结制成的一类无机非金属材料。它具有高熔点、高硬度、高耐磨性、耐氧化等优点。可用作结构材料、刀具材料，由于陶瓷还具有某些特殊的性能，又可作为功能材料。
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