溅射靶材向大尺寸、高纯度化发展

溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布.产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节.

靶材分类溅射靶材种类繁多,依据不同的分类标准,可以有不同的类别.溅射靶材可按形状分类、按化学成份分类以及按应用领域分类.

根据国内外有关钛铝合金靶材的生产工艺研究 报道,目前钛铝合金溅射靶材的主要制备技术有:强电流加热法、热等静压烧结法、热压烧结法.

钛铝合金是一种真空镀膜用合金溅射靶材,在该合金中通过调配钛与铝的含量可以获得不同特性 的钛铝合金靶材.

现代表面工程的发展越来越多地需要用到各种化合物薄膜,反应磁控溅射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一.

真空污染是一个值得被重视的问题,因为这些污染会影响设备性能,应注意定期或随时进行清洁工作.

真空磁控溅射镀膜特别适用于反应沉积镀膜,实际上,这种工艺可以沉积任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.

石英片温度的影响:温度较低→薄膜颗粒小→晶界散射多→电阻率下降;温度较高→晶粒过大→缺陷增多→电阻率升高.

超细粉体通常泛指粒径处于原子团簇与微粉之间的固体颗粒,其尺寸通常认为介于1纳米到几十微米之间.