影响ITO薄膜导电性能的几个因素
制备ITO薄膜时要得到不同的膜层厚度比较容易,而ITO薄膜的电阻率(ρ)的大小则是ITO薄膜制备工艺的关键。
PVD技术常用的方法和介绍
PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)
PVD前清洗
清洗是通过化学或(及)物理的方法将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净,确保工件获得较好的涂层结合力和生产的顺利进行
清洗之主要方法和步骤
清洗主要方法和步骤应包括:化学药剂喷淋、化学药剂浸泡与超声波清洗、漂洗、烘干。
溅射靶材时靶材安装过程中的注意事项
靶材安装过程中最重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接