磁控溅射镀膜的六大应用
磁控溅射方法可用于制备多种材料,如金属、半导体、绝缘子等.它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点.磁控溅射发展至今,除了上述一般溅射方法的优点外,还实现了以下是磁控溅射的六大应用. 各种功能薄膜…
关于 ITO 溅射靶材你需要知道的一切
热等静压(HIP)通过在压力下烧结或在高温下加压来制备ITO溅射靶.与真空热压类似,HIP在加热和加压状态下可以获得高密度(几乎是理论密度)和优异的物理和机械性能的产品.但也受设备压力和气缸尺寸的限制. 这三…
传感器发展的六大趋势
在未来,各种基础科学的进步将进一步推动传感器技术的快速进化.传感器将变得更加小型化、人性化,人机交互更加友好;变得更小、更便宜、更准确、更灵活、更节能、更环保,能够收集更多类型的数据,并集成越来越多的新技术.…
5种溅射镀膜方法(制备优质薄膜)
不平衡磁控溅射,是指阴极内外磁极部分的磁通量不等.不平衡磁场的作用是捕获从目标表面逸出的快速移动的二次电子.这些电子与远离靶材表面的中性气体原子发生电离碰撞,并在衬底区域产生更多的离子和更多的电子,从而大大增加了衬底离子轰击.由于不平衡磁控溅射的发展,薄膜的质量大大提高....
关于陶瓷靶材你所需要知道的一切
陶瓷靶材从字面上我们就可以知道它是比较脆的靶材,通常陶瓷靶材都会绑定背板一起使用.背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热传递的作用.陶瓷靶材的种类很多,应用范围广泛,主要用于微电子领域,…
关于稀土金属钆用途介绍
用于微波应用，钆用来做钆钇石榴石（Gd：Y3Al5O12）材料。这个材料是在微波设备中应用的钆合金。该混合物的产品将具有与之前的各种金属形式不同的特性。通过使用钆作为掺杂剂产生的产品的一个例子是钆掺杂的二氧化…
靶材半导体材料的重要成分
半导体材料可分为晶圆材料和封装材料.与晶圆制造材料相比,包装材料的技术壁垒相对较低,因此我们主要讨论晶圆制造材料.硅片的生产主要涉及7种半导体材料和化学药品,每种在半导体材料市场中所占的比例如下:硅片占54%…
一种用于太阳能薄膜电池的高纯溅射靶材
薄膜太阳能电池是第二代太阳能电池,通过在基板(例如玻璃、塑料或金属)上沉积一层或多层光伏材料的薄层或薄膜(TF)制成.溅射靶材,有时是蒸发丸,是沉积过程中的重要源材料.薄膜太阳能电池在多种技术中被商业化使用,…
半导体靶材是什么
半导体芯片行业用的金属溅射靶材,主要种类包括:铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯溅射靶材,以及镍铂、钨钛等合金类的溅射靶材.铝和铜是半导体生产主流工艺.芯片生产的导电层中同时存在铝和铜两种导线工艺,一般来说110n…
真空蒸镀制备的三元双层有机太阳能电池
三元共混体系(Ternaryblend)有机太阳能电池(也称OrganicPhotovoltaics,OPVs)是一种新型的光伏器件,它由两种给体材料和一种受体材料(或一种给体材料和两种受体材料)共混而成,利…
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