聚焦离子束( FIB) 技术的快速发展和实用化要归功于液态金属离子源的开发.

N型半导体也被称为电子型半导体,它(们)是自由电子浓度远大于空穴浓度的杂质半导体.P型半导体也叫空穴型半导体,是以带正电的空穴导电为主的半导体,或者说是空穴浓度远大于自由电子浓度的杂质半导体.

溅射靶材向大尺寸、高纯度化发展

溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布.产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节.

靶材分类溅射靶材种类繁多,依据不同的分类标准,可以有不同的类别.溅射靶材可按形状分类、按化学成份分类以及按应用领域分类.

根据国内外有关钛铝合金靶材的生产工艺研究 报道,目前钛铝合金溅射靶材的主要制备技术有:强电流加热法、热等静压烧结法、热压烧结法.

钛铝合金是一种真空镀膜用合金溅射靶材,在该合金中通过调配钛与铝的含量可以获得不同特性 的钛铝合金靶材.

现代表面工程的发展越来越多地需要用到各种化合物薄膜,反应磁控溅射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一.

真空污染是一个值得被重视的问题,因为这些污染会影响设备性能,应注意定期或随时进行清洁工作.

真空磁控溅射镀膜特别适用于反应沉积镀膜,实际上,这种工艺可以沉积任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜.